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化學拋光。化學拋光的基本原理就是將需要拋光的部件放入配置好的化學藥水中，通過一定的化學反應使需要拋光的物品表面的凸起部位腐蝕溶解消除掉，是物體表面凹凸差變小從而使表面更趨于平滑的化學反應。

化學拋光的作用：

1：處理后的工件表面光滑細密，表面的亮度比機械拋光更好，可接受異形件，任何部件均可處理，使用工藝簡捷，效果超過電解（拋光）拋光。

2：表面機械力產生的硬化層被化學藥水溶解掉，產生的應力消除，優化電焊性能。

被機械切削，內壁吸附力變小。

3：比機械拋光更好，其顯露和倒伏的毛刺可完全剔除，內壁不產生電弧火花，不銹鋼配件顯示面光滑平整。

表面被鈍化，鐵元素溶解的多從表面熔解，配件表面的平整性顯著提高并賈強，增加不銹鋼弓箭表面的抗氧化性，標面亮度，光滑性和衛生性都可明顯踢高。

4：可達不銹鋼配件鏡面光澤，凹凸性降低，，反射能高，流動性更快。

5：表面徽觀凸起處根據拋光時間長短可減薄拋光掉0.01~0.04mm左右，工件表面粗糙度加大，折射度接近鏡面程度，Ra≦0.05um

6：可以達到整平表面，清除毛刺毛邊的作用。

7：化學拋光拋光已經打到美國標準，另外XPS等檢測結果也符合半導體SEMI標準。

   異形工件也可以，不需要通電極，任何部位均可處理，使用方便并且公義效果優于電解拋光。

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